在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障時給出水PH值升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉積的發(fā)生，以防止生長后的晶體對膜表面產生操作，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3-5之間運行1-2小時的方法去除。

　　對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用2%的檸檬酸清洗液（控制PH不小于4）進行清洗。

注：應確保任何清洗液的PH不要低于4，否則可能會對RO膜元件造成損害，特別在溫度較高時更應注意，*高的PH值應不大于10，可使用硫酸或鹽酸降低PH值，用氫氧化鈉來提高PH值。

2.2 硫酸鈣垢 ：

　　清洗液2（參見表2）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的*佳方法。

2.3 金屬氧化物垢：

　　可以使上面所述的去降碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。

2.4 硅垢：

　　對于不是與金屬氧化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法，才能將他們去除，有關的詳細方法請與本公司聯(lián)系。

2.5 有積沉積物：

　　有機沉積物（如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液去除，為了防止再生繁殖，可使用本公司認可殺菌液在系統(tǒng)中循環(huán)浸泡，一般需較長時浸泡才能有效，如反滲透裝置停用超過三天時，*好采用清毒處理。

2.6 清洗液的選用：

　　清洗反滲透膜元件時建議采用表二所列的清洗液。確定清洗液前對污染物進行化學分析是十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇*佳的清洗劑及清洗方法。應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出*佳的清洗方法提供依據。

對于無機污染物建議使用1#清洗液，對硫酰鈣及有機污染物建議使用2#清洗液。對于嚴懲有機物污染建議使用3#清洗液。所有清洗液可以在溫度40℃下清洗60分鐘。所需用品量以每379升中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水（反滲透淡水）并混合均勻。