在半導體制作工序及電子部件清洗、醫(yī)療器具清洗等方面，需要使用到不含雜質(zhì)的高純度的純水，這種純水一般將地下水和自來水等原水經(jīng)過使用電滲析設(shè)備進行處理來制作，在高于高鹽度水進料物流的滲透壓的壓力下，唆使一部分高鹽度水進料物流穿過脫鹽組件的反滲透設(shè)備中的膜，一起使至少一部分溶解固體不穿過所述膜，從而發(fā)生總鹽度小于5，OOOppm的處理后低鹽度水產(chǎn)品物流和濃縮的廢鹽水物流，其間由高鹽度水進料物流在膜的進料側(cè)上施加的靜壓頭提供了為克服滲透壓所需壓力的至少主要分量；將低鹽度水產(chǎn)品物流從注射井中注入載烴地層中；上述電滲析設(shè)備處理用電極對中的其間一個電極由導電性的非溶性資料，涂敷有上述導電性的非溶性資料的導電資料，或涂敷有上述導電性的非溶性資料的石墨構(gòu)成，上述氮處理用電極對中的另一個電極由包括元素周期表中的Ib族，或IIb族的元素的一種以上的導電體，或鐵，或包含鐵的化合物構(gòu)成，于是，為了到達供給水的溫度，也可以將RO膜中的透過水流量堅持必定，現(xiàn)有提案進行流量反應(yīng)操控的體系，在這種流量反應(yīng)操控中，以使以電滲析設(shè)備制作的透過水的流量堅持在目標值的方法，經(jīng)過變頻設(shè)備操控向RO膜送出供給水的加壓栗的運轉(zhuǎn)頻率。