隨著我國半導體事業(yè)的迅速發(fā)展,特別是近年來大規(guī)模集成電路的出現(xiàn),一般的去離子水因存在著較大的顆粒和懸浮生物而不能滿足工藝需要,提出了制備超純水的要求。通過電滲析設備來制取超純水,讓水質(zhì)有了更大提高,MOS大規(guī)模集成電路的成品率也有了顯著的提高。因為經(jīng)過電滲析法處理過的超純凈水,其中的塵埃粒子不超過10個,足以滿足生產(chǎn)標準的要求，而且生產(chǎn)工藝簡單，成本較低，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的*。