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      高純水設(shè)備在去離子水設(shè)備中的應(yīng)用

      時(shí)間:2014-11-27 作者:admin 點(diǎn)擊:451次

      傳統(tǒng)的去離子水設(shè)備主要采用陰陽(yáng)離子交換脫鹽工藝,本處理工藝手段單一,流程簡(jiǎn)單,造價(jià)相對(duì)較低;但其缺點(diǎn)也相當(dāng)突出:運(yùn)行操作復(fù)雜,人力成本高,不容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化,浪費(fèi)酸堿,運(yùn)行成本高等缺點(diǎn)。
      近年來(lái),隨著RO反滲透、高純水設(shè)備等工藝的發(fā)展,高純水設(shè)備在去離子水設(shè)備中的應(yīng)用得到廣泛的推廣,目前去離子水設(shè)備工藝逐漸主流采用RO+高純水設(shè)備+精混處理,可以穩(wěn)定制取高純水質(zhì)。
      去離子水設(shè)備主體工藝:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)RO反滲透→PH值調(diào)節(jié)→中間水箱→二級(jí)高壓泵→二級(jí)RO反滲透→純水水箱→高純水設(shè)備水泵→高純水設(shè)備系統(tǒng)→拋光混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)→回至純水水箱
      去離子水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:
      ☆電路板的生產(chǎn)和清洗
      ☆超純材料和超純?cè)噭┑纳a(chǎn)和清洗
      ☆半導(dǎo)體電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
      ☆電池產(chǎn)品的生產(chǎn)
      ☆特殊行業(yè)高、精、尖產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
      ☆制藥行業(yè)診斷試劑等產(chǎn)品的生產(chǎn)

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