研究了電壓、pH、流量等因素對高純水設(shè)備去除純水中硅的影響,探討了高純水設(shè)備對純水中硅的去除機理,并對傳統(tǒng)工藝與高純水設(shè)備的除硅效果進行了對比.實驗結(jié)果表明:在pH、流量等因素不變的情況下,電壓的增加有利于高純水設(shè)備對硅的脫除;在電壓、流量等因素不變的情況下,高純水設(shè)備對硅的脫除率隨著pH的增加先增加,然后有所下降;在電壓、pH等因素不變的情況下,流量的增加不利于高純水設(shè)備對硅的脫除.