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      絡(luò)合劑對陽離子在高純水設(shè)備運行中遷移的影響

      時間:2014-09-28 作者:admin 點擊:377次

      針對傳統(tǒng)處理含絡(luò)廢水工藝復雜,運行不穩(wěn)定,重金屬物質(zhì)難以回收,高耗能等問題,而電去離子技術(shù)(高純水設(shè)備)具有*、節(jié)能、節(jié)水和環(huán)境友好等的顯著的優(yōu)點,本文對絡(luò)合金屬離子在高純水設(shè)備中的遷移機理進行了研究,以HEDP絡(luò)合銅為例,對理論遷移量計算進行了考察,然后考察了HEDP、EDTA、焦磷酸絡(luò)合劑存在時,多種金屬離子的共遷移情況,*后針對單級高純水設(shè)備過程得到的濃縮液濃度不夠,進行了多級高純水設(shè)備對陰離子NO3-和PO43-以及絡(luò)陰離子HEDP的濃縮研究。 ①當絡(luò)合劑與金屬陽離子共存時,陽離子將會以絡(luò)陰離子形式存在,并在電場的影響下,向陽極方向遷移,穿過陰離子交換膜,進入濃縮室。陰離子交換樹脂得到再生,恢復一定的交換能力(*高可達97%以上)。引入簡化后的Nernst-Planck方程研究HEDP絡(luò)合銅離子在高純水設(shè)備中的遷移機理。吸附有絡(luò)陰離子的陰樹脂進行遷移時,電壓、初始濃度與遷移通量的關(guān)系可近似化為Ni=kU或Ni=k'Ci,根據(jù)遷移通量,可計算理論遷移進入濃縮室中離子量Q理,且校正系數(shù)f可取電流效率ce,計算可信任范圍為0~8h內(nèi)。 ②從三種絡(luò)合劑(HEDP、焦磷酸根和EDTA)對金屬離子遷移的影響可以發(fā)現(xiàn),與絡(luò)合劑穩(wěn)定性越高,遷移進入濃室中的量越大,各個時間下濃縮室中兩者濃度之比與絡(luò)合系數(shù)之比有正相關(guān)性。因此,分離不同的兩種陽離子時,可以選擇不同的的絡(luò)合劑來進行,即可以采用絡(luò)合劑法對離子進行分離。 ③多級高純水設(shè)備實驗中,對于N、P,在濃室中可獲得高濃度營養(yǎng)鹽,特別是經(jīng)過多級處理后,濃度逐漸升高,經(jīng)過三級高純水設(shè)備運行后硝酸根和磷酸根可達439.38和1347.68mg/L,較*初進水濃縮度可達70.87和141.87。對于HEDP,三級高純水設(shè)備后,HEDP的濃度可達780mg/L以上。第三級高純水設(shè)備濃縮后濃縮液只需簡單常溫加熱,便可作為鍍銅液中的原料。因此,多級高純水設(shè)備回用低濃度有用物質(zhì)是有效的。 ④連續(xù)進水實驗結(jié)果表明,采用高純水設(shè)備對含絡(luò)合陰離子廢水的處理是可行的,具有99%以上的離子去除率,出水中離子濃度小于0.2mg/L,水可回用。

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