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      工藝參數(shù)對高純水設(shè)備濃縮分離含鎳離子溶液的

      時間:2014-08-30 作者:admin 點(diǎn)擊:347次

       采用高純水設(shè)備(EDI)對含Ni 2+溶液進(jìn)行了濃縮分離,從中研究了工作電壓、淡化室隔板厚度、原水濃度及組分對EDI分離性能的影響.結(jié)果表明,在15V電壓下,EDI以增強(qiáng)傳質(zhì)模式運(yùn)行可在較低能耗下獲得高質(zhì)量的出水;電壓增大使淡水室內(nèi)發(fā)生水解離而產(chǎn)生結(jié)垢,影響EDI的穩(wěn)定運(yùn)行.淡化室隔板由3mm增至5mm時,膜堆電阻增大,分離效率降低.對于含Ni 2+為50mg.L-1的NiSO4原水,在優(yōu)化條件下,濃、淡水出水中Ni 2+濃度分別為11 031和2.78mg.L-1,Ni 2+的濃縮倍數(shù)達(dá)223.對于含Ni 2+和Cu2+各25mg.L-1的雙組分原水,EDI對Cu2+有更好的濃縮效果.實(shí)驗(yàn)結(jié)束時,濃水出水中Ni 2+、Cu2+濃度分別為3 258和4 690mg.L-1,濃縮倍數(shù)分別為130和187;淡水出水中Ni 2+及Cu2+濃度分別為4.71和3.71mg.L-1.經(jīng)過研究,設(shè)置合理的工藝參數(shù),對高純水設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行有著相當(dāng)重要的影響。

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