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      高純水設(shè)備在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)中的作用
      
 
      時(shí)間：2014-08-06　作者：admin　點(diǎn)擊：351次
      
 
       高純水水在大規(guī)模集成電路工藝中的意義 1.電離雜質(zhì)的影響 據(jù)報(bào)導(dǎo)如果在硅片表面二氧化硅膜上附著粒徑為0.1μ的氯化鈉粒子,由于潮解作用,可擴(kuò)展為半徑50μ的圓,這時(shí)鈉的表面濃度為1.5×10~(11)/cm~2,這些鈉如果都變?yōu)榭蓜?dòng)離子在1000A的氧化膜中移動(dòng),則使MOS開啟電壓偏移0.7V,這個(gè)值足以使產(chǎn)品造成不良影響。又如在硅片上附著粒徑為0.1μ的金粉,熱處理全部擴(kuò)散至基片中,并均勻地分布
      
 
      
 
      
 
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